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PVD
產品描述
(1)本設備為磁控濺射工藝鍍膜設備,可選:4"、6"、8"、12"英寸尺寸產品。(2)可用于Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO2、Al2O3、TaN、ITO、LCO、LiP等各種金屬、非金屬、化合物薄膜材料的制備。(3)通過...
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